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第一千四百八十一章 将MR混合现实技术用于赛事(2/2)

作者:止天戈
座大型的晶圆厂。这座晶圆厂不仅仅能够生产制造晶圆,而且还能生产制造芯片。

这座晶圆厂我们计划一期工程完工并且投入生产后,年生产芯片将达到五千万片以上。届时,将能够暂时缓解我们国内高端芯片紧缺的局面。并且帮助相关的企业摆脱海外的限制以及套在脖子上面的枷锁,让他们能够逐渐恢复正常。

二期工程我们计划将这个产量再提升一倍,解释将有效解决我们国家芯片紧缺的现状,并使得我们国家在高端芯片领域逐渐实现自主化,摆脱对于海外的依赖。

如果一切顺利的话,整个过程将持续五年时间,我们有信心在五年内达计划目标要求。”

“好,大胆放手去干。在这块,有国家为你们全程保驾护航着呢。”领导露出了高兴的笑容道。

这样的回答的确很提气,虽然需要五年时间,但对于这么大一个项目和工程来说,它并不算长,甚至可以说已经是非常快了。

再说,这么多年都熬过来了,还差这五年时间吗。

说想到这,领导的脸色的笑容更胜,然后冲着众人问道:“什么时候我们能够实现三纳米,甚至两纳米的光刻机技术。”

听到这个问题,袁守义想了一下,然后回答道:“想要实现三纳米甚至是两纳米的生产工艺,主要还是在光源上面,这一点还是要看吴总他们的那边的进度。”

哦,众人闻言都看向了吴浩。

呵呵,面对众人的目光,吴浩笑着说道:“主要还是复合式透镜组的精度,精度越高,极紫外光的波长也就越短,对于光线的控制也就越精准,所生产出来的芯片制程也就越高。

当然了,光刻机技术的发展不止是光源和透镜组这一块,还要其它一系列技术的发展和进步。简单来说,这就是一个复杂的系统性工程,需要各方面全面发展才行。

对于我们来说,现阶段我们要做的一方面是加强对于现阶段5纳米制程光刻机的生产,使其能够满足我们国内芯片制造领域的发展和需求,解决芯片紧缺这个紧要问题。

虽然说相比于目前国际先进的3纳米和2纳米芯片还有一定的差距,但这个差距其实并不大。就现阶段来说,完全可以满足我们相关企业对于高端芯片的需求。

而另一方面,我们也需要吃透和消化5纳米制程光刻机研制成功经验,为下一步研发更高制程光刻机奠定基础。”

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